特許
J-GLOBAL ID：200903070017238195
マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-118247
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333842
出願日： 1993年05月20日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【構成】 マイクロ波プラズマ処理装置において、マイクロ波導波管の断面の寸法を変化させるなどの導波管内波長調整手段を設け、その装置を用いて処理を行なう。【効果】 管内波長が微妙に変化してもマッチングが容易にとれ、高密度かつ高隔離プラズマを発生させることができ、段差被覆性などの性能に優れた高性能の薄膜形成などの処理を高速で実施することができる。
請求項（抜粋）：
少なくとも、(1)プラズマ処理室、(2)該処理室内を真空に排気する手段、(3)該処理室内に処理用ガスを供給する手段、(4)該処理室の外周に配置され内側に複数のスリット孔が形成されているマイクロ波導波管を有するプラズマ発生手段、および(5)被処理基体を保持する手段を有するプラズマ処理装置において、マイクロ波導波管の管内波長を変化させる手段を有することを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
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