ウエット処理方法およびウエット処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-092427
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283485
出願日： 1996年04月15日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】液晶基板などを超音波を照射しながら水により洗浄する方法では、基板表面に凹凸や基板を支持する部材などにより超音波が当たらない部分があり、この部分の付着物を除去できず、洗浄が完全に行われなかった。【解決手段】超音波容器2の向かい合わない2つの側壁の外側に発振装置3,3を設置する。そして、前記超音波容器2の中に、洗浄容器1が設置され、この洗浄容器1の中に、超純水や電解イオン水などの洗浄水12が入れられる。洗浄容器1の中に基板4を支持する基板保持体5を入れ、発振装置3,3から交叉する2方向に超音波を基板4に平行に照射させる。このため、基板4の表面全体に均一に超音波が照射され、基板表面の付着物をむらなく除去できる。

請求項（抜粋）：

水が滞留しまたは流れる容器内に被処理物を浸漬させ、交叉する少なくとも2方向から前記容器内の被処理物に超音波を連続的にまたは断続的に照射することを特徴とするウエット処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , B08B 3/12

FI (2件)：

H01L 21/304 341 M , B08B 3/12 A

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