特許
J-GLOBAL ID：200903070047400000
洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-345911
公開番号（公開出願番号）：特開平5-182945
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】本発明は、液晶表示素子用ガラス基板,半導体用シリコン基板を洗浄対象とし、液体を洗浄媒体として洗浄,乾燥を行う洗浄装置において、洗浄液との濡れ性の悪い基板を対象とした一貫の洗浄乾燥装置を供給することにある。【構成】酸素を含む雰囲気中にて基板に紫外線を照射し、基板の表面を改質して洗浄液との濡れ性を向上させる処理を行う表面処理槽1を、洗浄槽2,乾燥槽3の前工程に設ける事により達成される。【効果】乾燥じみを作ることなく基板を洗浄乾燥することが出来るため、半導体や液晶表示素子作成の工程において、洗浄の不良による欠陥や性能不良、生産性の低下を防止する事が出来る。又、洗浄乾燥を一貫ラインで行えるため、オフラインの表面改質装置が不用となる。
請求項（抜粋）：
基板を液体にて処理した後、その液体を除去する洗浄装置において、液体による処理の前に基板の表面改質処理を行う手段を有することを特徴とした洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/10
, B08B 7/04
