特許
J-GLOBAL ID：200903070065061566
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-024050
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097269
出願日： 1993年02月12日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 載置台上の被処理基板を基板支持ピンで持ち上げる際等に、被処理基板およびその表面に形成された回路パターン等が損傷を受けたり、被処理基板が位置ずれを起こすことを防止することができるとともに、加熱工程のフレキシビリティーの向上を図ることのできる基板処理装置を提供する。【構成】 ホットプレート4には、透孔5が設けられており、これらの透孔5には、基板支持ピン6が配置されている。基板支持ピン6は、その下部を連結ガイド7に固定されており、この連結ガイド7は、ベルト8に接続されている。このベルト8は、ステップモータ9に嵌合されたプーリー10とこのプーリー10の上方に設けられたプーリー11との間に巻回されており、ステップモータ9の回転に応じて、基板支持ピン6が上下動するよう構成されている。このステップモータ9は、制御装置12によってその起動、停止、回転速度等が制御される。
請求項（抜粋）：
被処理基板が載置される載置板と、前記載置板を貫通する如く設けられた複数の基板支持ピンと、駆動モータを備え、前記基板支持ピンと前記載置板とを相対的に上下動させる駆動機構と、前記駆動モータの駆動、停止、回転速度を制御可能に構成された制御手段とを具備したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, G02F 1/13 101
, G03F 1/08
, G03F 7/26
