特許
J-GLOBAL ID:200903070065215555

基板を縦向きに支持するグリッパ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-142168
公開番号(公開出願番号):特開2001-024052
出願日: 2000年05月15日
公開日(公表日): 2001年01月26日
要約:
【要約】【課題】 基板の摺動を低減するエンドエフェクタを提供する。【解決手段】 基板を縦向きで支持するグリッパアセンブリが提供される。グリッパアセンブリのエンドエフェクタは、基板のエッジだけに接触する。第1の態様では、エンドエフェクタの各々が、第1の一対の対向面と第2の一対の対向面とを備えており、その全てが基板へ同時に接触して、基板をクランプ式の方法で保持する。第2の態様では、エンドエフェクタの各々が、基板に同時に接触する下側の一対の対向面と、基板の厚さより大きく、基板が水平方向へ傾斜することを制限する上側の一対の対向面と、を備える。第2の態様では、エンドエフェクタは、基板に接触しない第1の高さで閉じることができ、その後、上昇して、基板に緩く接触し、基板をポケット式の方法で支持することができる。
請求項(抜粋):
縦向きの基板をハンドリングする方法であって、縦向き基板を支持する一対の対向面を各々が有する一対のエンドエフェクタを、縦向き基板の両側に配置するステップと、前記一対の対向面が前記基板と交わる高さよりも下の高さへ前記エンドエフェクタを移動させるステップと、前記エンドエフェクタの前記一対の対向面が前記基板のエッジを介して前記基板に接触し前記基板を支持するように、前記一対のエンドエフェクタを上昇させるステップと、を備える方法。
IPC (3件):
H01L 21/68 ,  B25J 15/08 ,  B65G 49/07
FI (3件):
H01L 21/68 S ,  B25J 15/08 P ,  B65G 49/07 F
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開昭61-241940
  • ウエハ保持装置およびその保持方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-253994   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭61-204947
全件表示

前のページに戻る