特許

J-GLOBAL ID：200903070068803245

反応性ケイ素基含有ノルボルネン系ポリマーの製造方法

発明者： 片岡 英明 ,  杉村 正彦 ,  光田 康裕
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-046279
公開番号（公開出願番号）：特開平5-214079
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】【目的】 低誘電率かつ十分な耐熱性を有し、金属や無機材料等との接着性が良好なノルボルネン系ポリマーの製造方法を提供すること。【構成】 炭素-炭素二重結合を有するノルボルネン系ポリマーと、ケイ素原子に直結した水素原子と反応性基を有するケイ素化合物とをヒドロシリル化反応せしめ、さらに所望により反応生成物を水素添加することを特徴とする反応性ケイ素基含有ノルボルネン系ポリマーの製造方法。

請求項（抜粋）：

炭素-炭素二重結合を有するノルボルネン系ポリマーと、ケイ素原子に直結した水素原子と反応性基を有するケイ素化合物とをヒドロシリル化反応せしめ、さらに所望により反応生成物を水素添加することを特徴とする反応性ケイ素基含有ノルボルネン系ポリマーの製造方法。

IPC (4件)：

C08G 61/08 NLH ,  C08F 8/04 MGB ,  C08F 8/42 MHU ,  C08F232/08 MNV