ガスハイドレート製造貯蔵方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小川信一 , 野口賢照 , 斎下和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-047086
公開番号（公開出願番号）：特開2004-256619
出願日： 2003年02月25日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】天然ガスをNGHスラリーにして貯蔵する場合に、そのエネルギー消費量を低減することができるガスハイドレート製造貯蔵方法を提供する。【解決手段】ガスaと水bからガスハイドレートスラリーcを生成する。このガスハイドレートスラリーcを貯槽8に貯蔵する。この貯槽8内のガスハイドレートスラリーcを製氷用冷凍機20の凝縮器21の廃熱を利用して再ガス化する。その際に生じた水を含む余剰水cを前記製氷用冷凍機20により製氷し、その氷eをガスハイドレートスラリー生成時の冷熱として利用する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ガスと水からガスハイドレートスラリーを生成し、このガスハイドレートスラリーを貯槽に貯蔵し、該貯槽内のガスハイドレートスラリーを製氷用冷凍機における凝縮器の廃熱を利用して再ガス化し、その際に生じた水を含む余剰水を前記製氷用冷凍機により製氷し、その氷をガスハイドレートスラリー生成時の冷熱として利用することを特徴とするガスハイドレート製造貯蔵方法。

IPC (3件)：

C10L3/06 , F25C1/00 , F28D20/02

FI (3件)：

C10L3/00 A , F25C1/00 D , F28D20/00 C

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