特許
J-GLOBAL ID：200903070094355285
セラミツクス薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-183908
公開番号（公開出願番号）：特開平5-009010
出願日： 1991年06月28日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：
【要約】【目的】本発明は、セラミックスの前駆体であるような金属化合物とアルコキシドとの混合物あるいは反応物などから、焼結あるいは粉砕という工程によりセラミックス粉末を得ることなく、該前駆体であるような材料から基材上に直接セラミックス薄膜を製造する方法を提供することにある。【構成】セラミックスの前駆体、例えばマグネシウムエトキシドとシュウ酸アルミニウムとの混合物あるいは加水分解生成物から熱プラズマスプレイにより、直接基材上に、酸化アルミニウムマグネシウム(スピネル)薄膜を形成する。
請求項（抜粋）：
(I)1種類以上の金属元素を有するアルコキシドを除く、金属化合物、(II)1種類以上の金属元素を有するアルコキシド、(I)と(II)との混合物および/または(I)と(II)との反応物を熱プラズマにより基材上に直接溶射し、セラミックス膜とすることを特徴とするセラミックス薄膜の製造方法。
IPC (5件)：
C01B 13/14
, C01F 7/16
, C01F 7/30
, C01F 17/00
, C01G 1/02
