特許
J-GLOBAL ID：200903070121504042
静電吸着装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-232800
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086386
出願日： 1993年09月20日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】プラズマによりエッチング処理されるウエハの温度分布の均一化を図る。【構成】プラズマ11によりエッチング処理されるウエハ1を静電吸着するウエハ吸着部22と超音波加工により絶縁膜6に形成した深さ約100μmのくぼみであるウエハ非吸着部23を静電吸着電極2表面に交互に設ける。【効果】ウエハ内の温度分布の均一化を図ることができる。
請求項（抜粋）：
プラズマにより処理されるウエハを絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着装置において、前記ウエハと絶縁膜間との熱通過率に分布を与えるように構成したことを特徴とする静電吸着装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68
, H01L 21/3065
