特許
J-GLOBAL ID:200903070122368169

塗布液塗布方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉谷 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-315814
公開番号(公開出願番号):特開平10-156273
出願日: 1996年11月27日
公開日(公表日): 1998年06月16日
要約:
【要約】【課題】 大口径基板であっても膜厚均一性を良好に保ちつつ膜厚調整可能な範囲を広くすることができる。【解決手段】 基板に塗布液を供給して所望膜厚の塗布被膜を形成する塗布液塗布方法であって、基板を静止させた状態で塗布液の供給を開始するとともに(tS 時点)、その供給を停止し(tE 時点)、基板を比較的高速の第1の回転数R3で高速回転させ(t1 〜t3 )、基板を第1の回転数R3よりも低い第2の回転数R4で回転させて塗布被膜を形成する(t4 〜t5 )。膜厚を調整するには、第1の回転数R3で高速回転させる空回転時間TH ’を調整する。
請求項(抜粋):
基板に塗布液を供給して所望膜厚の塗布被膜を形成する塗布液塗布方法であって、(a)基板を静止させた状態で前記基板の表面中心付近に塗布液の供給を開始するとともに、その供給を停止する過程と、(b)前記基板を比較的高速の第1の回転数で高速回転させる過程と、(c)前記基板を第1の回転数よりも低い第2の回転数で回転させて塗布被膜を形成する過程とをその順に実施し、基板を第1の回転数で高速回転させる時間を調整して、前記塗布被膜の膜厚を調整するようにしたことを特徴とする塗布液塗布方法。
IPC (5件):
B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/31 ,  B05C 11/08
FI (5件):
B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/31 A ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/30 564 D

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