特許

J-GLOBAL ID：200903070141000253

光学構造体および光学構造体を製造するための方法

発明者： ウルリケ グリューニング ,  フォルカー レーマン ,  ラインハルト シュテングル ,  ヘルマン ヴェント ,  ハンス ライジンガー
出願人/特許権者： インフィネオン テクノロジース アクチエンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-531754
公開番号（公開出願番号）：特表2002-503825
出願日： 1998年12月17日
公開日（公表日）： 2002年02月05日
要約：

【要約】半導体材料を有するサブストレート(1)に格子構造部(2)が設けられており、格子構造部(2)は、少なくとも1つの周波数帯域が存在しているという特性を有し、格子構造部(2)の中で、この周波数帯域のある周波数の光が伝搬できなくなっている。格子構造部(2)は、孔(4)の配列と欠陥領域(5)とを有しており、孔(4)は欠陥領域(5)の外側で周期的パターンにて配置されており、周期的パターンは欠陥領域(5)において妨害されている。格子構造部(2)の表面に、少なくとも欠陥領域(5)の領域において導電層(8)が設けられている。

請求項（抜粋）：

サブストレート(1)に格子構造部(2)が設けられており、 前記サブストレート(1)は少なくとも前記格子構造部(2)の領域に半導体材料を有しており、 前記格子構造部(2)は、少なくとも1つの周波数帯域が存在しているという特性を有し、前記格子構造部(2)の中で、この周波数帯域のある周波数の光が伝搬できなくなっており、 前記格子構造部(2)は、欠陥領域(5)を備えた孔(4)の配列を有しており、前記孔(4)は前記欠陥領域(5)の外側で周期的パターンにて配置されており、該周期的パターンは前記欠陥領域(5)において妨害されており、 前記格子構造部(2)の表面に、少なくとも前記欠陥領域(5)の領域において導電層(8)が設けられていることを特徴とする、光学構造体。

IPC (2件)：

G02B 6/12 ,  G02B 6/13

FI (3件)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 M

Fターム (5件)：

2H047KA03 ,  2H047LA18 ,  2H047TA01 ,  2H047TA43 ,  2H047TA44