特許
J-GLOBAL ID：200903070143954319
アナモフィック光束整形光学系および整形方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-112217
公開番号（公開出願番号）：特開平11-326768
出願日： 1999年04月20日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：
【要約】【課題】所望の形状の領域を、均一に、最小の収差で、出力光束に欠けが無く、高効率に照明する光学系および方法。【解決手段】第一のアナモフィック面に入射した光束の、互いに直角な方向に、異なる倍率をもたらす、第一と第二の反射アナモフィック面を持った、アナモフィック光束整形光学系および整形方法。更に、アナモフィック面は、二つの互いに直角な方向に放物線断面を持ち、放物線断面は、基底曲率半径を持ち、そして第一と第二方向の倍率は、第一と第二方向の基底曲率半径の比により決定される、アナモフィック光束整形光学系および整形方法。
請求項（抜粋）：
第一方向に第一の非球面断面と、第二方向に第二の非球面断面とを持つ第一反射アナモフィック面と、前記第一方向に第三の非球面断面と、前記第二方向に第四の非球面断面とを持つ第二反射アナモフィック面とを持ち、前記第一反射アナモフィック面に入射した入射光束は、前記第二反射アナモフィック面に向かって反射されるように構成されることを特徴とするアナモフィック光束整形光学系。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 17/08 A
, G02B 13/18
