内部構造観察方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村純之助 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-222006
公開番号（公開出願番号）：特開2001-050919
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：

【要約】【課題】試料の非破壊で試料材料内部に埋め込まれた微細な構造を明瞭に観察する。【解決手段】電子線3を走査して試料内部に埋め込まれた微細な構造体1を観察・計測する内部構造観察方法において、電子線3の電子の平均自由行程を、観察対象である微細な構造体1が埋め込まれた深さと同程度とする。

請求項（抜粋）：

電子線を走査して試料内部に埋め込まれた微細な構造体を観察・計測する内部構造観察方法において、上記電子線の電子の平均自由行程を、観察対象である上記構造体が埋め込まれた深さと同程度とすることを特徴とする内部構造観察方法。

IPC (3件)：

G01N 23/225 , H01J 37/28 , H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 23/225 , H01J 37/28 B , H01L 21/66 N

Fターム (17件)：

2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001GA06 , 2G001GA09 , 2G001KA20 , 2G001LA11 , 2G001NA07 , 2G001NA20 , 2G001RA08 , 2G001RA20 , 4M106AA20 , 4M106BA02 , 4M106CA70 , 4M106DH24 , 4M106DH60 , 5C033UU03

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