特許
J-GLOBAL ID：200903070154334517
マスクとそれを用いた投影露光方法
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-177816
公開番号（公開出願番号）：特開平5-002261
出願日： 1991年06月24日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【目的】 開口部フィルタを用いることなく、コントラスト,解像性を向上させた投影露光方法およびそれに用いるマスクを実現する。【構成】 回折光の各次数の光強度がマスクパタンのフーリエ展開したときの各成分の大きさに比例することに着目し、マスク4の遮光部2を半透明にし、その透過率をパタン性状に基いて設定するとともに、その遮光部分の透過光がマスク透明部3の通過光と180°の位相差をもつようにする。これにより、回折光の0次成分を相対的に1/2となるようにし、1次回折光とのバランスを、開口部フィルタを用いることなく達成できる。さらに、高コントラストと高解像性とを投影レンズ系を変更することなく、両立させることができる。
請求項（抜粋）：
マスク基板と、該マスク基板の一方の面に所定パタンを有して形成された遮光部を構成するマスク材からなり、前記マスクの遮光部は半透明であって、その透過率がパタン性状に基いて設定され、かつその遮光部分の通過光がマスクの透明部の通過光と半波長の位相差をもつようにしたことを特徴とするマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
