特許

J-GLOBAL ID：200903070161334425

新規なジオール化合物及びその製造法

発明者： 長井 勝利
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 宮本 晴視
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-237333
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064243
出願日： 1999年08月24日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】【目的】新規なジオール化合物を提供すること、および前記ジオール化合物の新規製造方法を提供すること【構成】一般式1で表されるジエタノールアミンの窒素原子に結合する水素をβ位に置換基を有するエチル基で置換したジオール化合物。【化1】〔式中、X=CN,NO2またはCOORであり、Y=H,CH3,CNまたはハロゲンであり、R=CnH2n+1(n=1〜20),CH2CmF2m+1、CH2CH2CmF2m+1(式中mは1〜10の範囲である。),(CH2CH2-O)pCH3,(CH2CH2-O)pOCCH3(式中pは、1〜1000である。),(Si(CH3)2-O)qCH3(式中qは、1〜1000である。)である。〕

請求項（抜粋）：

一般式1で表されるジエタノールアミンの窒素原子に結合する水素をβ位に置換基を有するエチル基で置換したジオール化合物。【化1】〔式中、X=CN,NO2またはCOORであり、Y=H,CH3,CNまたはハロゲンであり、R=CnH2n+1(n=1〜20),CH2CmF2m+1、CH2CH2CmF2m+1(式中mは1〜10の範囲である。),(CH2CH2-O)pCH3,(CH2CH2-O)pOCCH3(式中pは、1〜1000である。),(Si(CH3)2-O)qCH3(式中qは、1〜1000である。)である。〕

IPC (4件)：

C07C229/12 ,  C07C227/08 ,  C07F 7/18 ,  C09K 3/18 101

FI (4件)：

C07C229/12 ,  C07C227/08 ,  C07F 7/18 M ,  C09K 3/18 101

Fターム (30件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB68 ,  4H006AC52 ,  4H006BB11 ,  4H006BB16 ,  4H006BB20 ,  4H006BB25 ,  4H006BB70 ,  4H006BC10 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BN10 ,  4H006BT12 ,  4H006BU32 ,  4H006FE71 ,  4H006FE74 ,  4H020BA25 ,  4H020BA34 ,  4H049VN01 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ16 ,  4H049VQ28 ,  4H049VQ33 ,  4H049VR22 ,  4H049VR42 ,  4H049VU28 ,  4H049VV02 ,  4H049VV07 ,  4H049VV16

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭59-199562
  

審査官引用 (1件)

• 特開昭59-199562
  

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Chemical Abstracts,vol.122,abs.no.203818

審査官引用 (1件)

• Chemical Abstracts,vol.122,abs.no.203818