特許
J-GLOBAL ID:200903070166683339

光硬化型シリコン被覆組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-348574
公開番号(公開出願番号):特開平5-295326
出願日: 1992年12月28日
公開日(公表日): 1993年11月09日
要約:
【要約】【目的】 光硬化型シリコン被覆組成物およびその被覆方法を提供するものである。【構成】 (イ)原樹脂分散液中の固形成分総重量に対して、コロイドシリカ5〜75重量%と一般式RSi(OH)3[ここで、RはC1-6のアルキル、C6-20のアリールおよび水酸基から選択される]で表されるシラノールの部分縮合物25〜95重量%を含む水性アルコール性原樹脂分散液および(ロ)原樹脂分散液中の固形成分100重量部に対して0.001〜0.02重量部の一般式Ar3S+MXn-[ここで、Ar3はトリフェニル、トリ(4-メトキシフェニル)、トリ(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)、ジフェニル-2、5-ジメチルフェニル、またはトリ(4-メチルフェニル)基であり、MXn-はハロゲン化金属陰イオンである]で表される光硬化型触媒を含むことを特徴とする光硬化型シリコン被覆組成物。
請求項(抜粋):
(イ)原樹脂分散液中の固形成分総重量に対して、コロイドシリカ5〜75重量%と一般式RSi(OH)3[ここで、RはC1-6のアルキル、C6-20のアリールおよび水酸基から選択される]で表されるシラノールの部分縮合物25〜95重量%を含む水性アルコール性原樹脂分散液および(ロ)原樹脂分散液中の固形成分100重量部に対して0.001〜0.02重量部の一般式Ar3S+MXn-[ここで、Ar3はトリフェニル、トリ(4-メトキシフェニル)、トリ(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)、ジフェニル-2、5-ジメチルフェニル、またはトリ(4-メチルフェニル)基であり、MXn-はハロゲン化金属陰イオンである]で表される光硬化型触媒を含むことを特徴とする光硬化型シリコン被覆組成物。
IPC (7件):
C09D183/04 PMU ,  C09D183/04 PMT ,  C08J 7/04 ,  C08K 3/36 LRX ,  C08K 5/36 ,  C08L 83/04 LRV ,  G02B 1/10

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