特許
J-GLOBAL ID:200903070172325479

ゲイジ場発生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-213976
公開番号(公開出願番号):特開2002-028252
出願日: 2000年07月14日
公開日(公表日): 2002年01月29日
要約:
【要約】【課題】 効率よくゲイジ場を発生させる。バイブレータの装置外部への音漏れを少なくする。【解決手段】 底板6-1とリング6-2とステム6-3と振動板6-4と永久磁石6-5と電磁コイル6-6とによりバイブレータ6を構成する。このバイブレータ6のリング6-2の表面に、X軸(電気軸)方向をバイブレータ6の主振動方向Vと一致させて、Xカット水晶5を接着する。リング6-2の主振動方向VとXカット水晶5のX軸方向とは一致しているので、Xカット水晶5は主としてX軸方向に振動する。Xカット水晶5がX軸方向に振動するときの圧電効果は大きい。この大きな圧電効果により、ゲイジ場が効率よく発生する。このゲイジ場発生部100を二重構造の筒の中に入れ、バイブレータ6の装置外部への音漏れを少なくする。
請求項(抜粋):
バイブレータと、このバイブレータを所定の振動周波数で駆動する駆動手段と、電気軸方向を前記バイブレータの主振動方向と一致させて前記バイブレータに接着された圧電振動子素子とを備えたことを特徴とするゲイジ場発生装置。
IPC (3件):
A61N 1/40 ,  A61H 23/02 341 ,  A61M 21/02
FI (3件):
A61N 1/40 ,  A61H 23/02 341 ,  A61M 21/00 320
Fターム (6件):
4C053LL13 ,  4C074BB05 ,  4C074CC02 ,  4C074CC03 ,  4C074DD05 ,  4C074HH03

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