特許

J-GLOBAL ID：200903070187241530

水処理方法および装置

発明者： 小島 泉里
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-262049
公開番号（公開出願番号）：特開2000-084574
出願日： 1998年09月16日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：

【要約】【課題】 過酸化水素併用オゾン酸化において、半導体の洗浄工程で用いられた洗浄水、市水および工業用水等の原水中に含有された有機物(TOC)を高効率で連続的に分解し、該TOCがほぼ除去された純水を製造することができる水処理方法を提供すること。【解決手段】 被処理水に過酸化水素を添加するとともにオゾンを10ppm以上の濃度に溶解させて被処理水中に溶解させる有機物を酸化分解する工程と、有機物を酸化分解する工程を経た被処理水からイオン性物質を除去する工程とを被処理水の流路に沿って実行する水処理方法において、被処理水を少なくとも1m/秒の流速で管路に通水するとともに、管路を流れる被処理水中に前記過酸化水素とオゾンを注加した後、撹拌装置により撹拌する。

請求項（抜粋）：

被処理水に過酸化水素を添加するとともにオゾンを10ppm以上の濃度に溶解させて被処理水中に溶解させる有機物を酸化分解する工程と、前記有機物を酸化分解する工程を経た被処理水からイオン性物質を除去する工程とを被処理水の流路に沿って実行する水処理方法において、被処理水を少なくとも1m/秒の流速で管路に通水するとともに、前記管路を流れる被処理水中に前記過酸化水素とオゾンを注加した後、撹拌装置により撹拌することを特徴とする水処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/72 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/78

FI (3件)：

C02F 1/72 Z ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/78

Fターム (30件)：

4D025AA04 ,  4D025AB34 ,  4D025AB35 ,  4D025BA08 ,  4D025BA14 ,  4D025BB04 ,  4D025CA03 ,  4D025CA05 ,  4D025CA06 ,  4D025CA10 ,  4D025DA03 ,  4D025DA10 ,  4D050AA05 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050AB11 ,  4D050AB16 ,  4D050AB31 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC02 ,  4D050BC10 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA08 ,  4D050CA13 ,  4D050CA20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭53-094446
  
• 特開昭56-021686