特許

J-GLOBAL ID：200903070190060377

スパッタリング装置および同装置用の液冷式ターゲット組立体

発明者： アンダーソン,リチャード エル.
出願人/特許権者： ノヴェラス システムズ,インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 内原 晋
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-506121
公開番号（公開出願番号）：特表2000-500188
出願日： 1997年07月17日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：

【要約】マグネトロンスパッタリング装置(5)は互いに隣接する圧力制御可能なチェンバ(25)およびスパッタリングチェンバ(10)と両者間の開口部に配置した全体として平らなターゲット組立体(20)とを備え、前記チェンバの各々の内部の圧力を別々に制御でき前記ターゲット組立体(20)の両側における圧力の差を低下できるように構成してある。ターゲット組立体(20)は、スパッタリングチェンバ内部にスパッタリング面(45)を有するターゲット板(40)と、そのターゲット板(40)の背面にとり付けた溝付き表面を備える冷却板とを有し、それら溝の形成する通路を流れる冷却材がターゲットを冷却できるようになっている。それら溝は効率の良い一様な冷却のために複数の互いに平行な直線状通路を有するパターンに形成してある。冷却板の溝付き表面はターゲット板(40)に面していても、カバー板で覆われた状態でターゲット(40)の反対側に面していてもよい。スパッタリング面(45)とスパッタ膜形成対象物(33)との間の距離をターゲットのスパッタリング面(45)の消耗のあとも一定に維持するようにターゲット組立体(20)をスパッタリング面(45)と垂直な方向に可動にすることもできる。

請求項（抜粋）：

基板に材料を堆積させるスパッタリング装置であって、 基板ホルダーと、 回転可能な磁石と、 前記基板ホルダーと前記回転可能な磁石との間に配置され前記基板ホルダーに面するスパッタリング面と前記回転可能な磁石に面する背面板面とを有するとともに、前記スパッタリング面と前記背面板面との間に位置する複数の液状冷却材通路、すなわち平行な通路によって互いに連結された湾曲周囲通路を含む液状冷却材通路であって、前記湾曲周囲通路の各々が前記平行な通路の各々の単位長さあたりの流体力学的インピーダンスよりも小さい単位長さあたりの流体力学的インピーダンスを備えるターゲット組立体とを含むスパッタリング装置。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C 14/34 T ,  H01L 21/285 S ,  H01L 21/31 D