特許

J-GLOBAL ID：200903070217300022

回路基板形成用アルカリ現像型フォトレジスト組成物

発明者： 塩田 淳 ,  橋本 和美 ,  千葉 秀貴
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-185346
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029980
出願日： 1994年07月14日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】 サブトラクティブ法配線形成用、電気めっき用、無電解めっき用、バンプ形成用などに好適な回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 (A)(a)不飽和カルボン酸と、(b)他のラジカル重合性化合物との共重合体を、(c)エポキシ基を有するラジカル重合性化合物と反応せしめて得られる不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂、(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、(C)光重合開始剤、(D)有機溶剤、を含有するフォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)(a)不飽和カルボン酸と、(b)他のラジカル重合性化合物との共重合体を、(c)エポキシ基を有するラジカル重合性化合物と反応せしめて得られる不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂、(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物および(C)光重合開始剤、を含有することを特徴とする回路基板形成用アルカリ現像型フォトレジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/038 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28