特許
J-GLOBAL ID：200903070223089163
ガス回収循環装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-095224
公開番号（公開出願番号）：特開平7-299321
出願日： 1994年05月09日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】 良い加工を行い、かつ運転コストを下げる。【構成】 真空ポンプ35で系内の空気を排出し、また加工装置1内を所定圧力に保つ。ダイヤフラム式コンプレッサ31は排出ガスを加圧して吸着槽13と脱水槽14に通す。回収ガスの一部はバイパス管32を流れる。制御装置37は、圧力計17とガス分析装置18の出力信号に基づいて、流量制御器27,28,29と圧力調整弁34を制御する。流量制御器28,29によって反応性ガスとキャリアガスの流量を正確に制御し、また回収ガス量を流量制御器27で正確に制御して加工条件を一定に保つことができる。吸着槽13と脱水槽14は加圧下で性能一杯に機能する。
請求項（抜粋）：
反応性ガスとキャリアガスとを含有する気体雰囲気中に配した被加工物近傍で、放電またはレーザ光励起により選択的に反応性ガスを活性化させ、生じた化合物を気化させて被加工物を切断加工する加工装置に、該加工装置から排出された排出ガスをガス循環手段の作動で加工装置に戻すガス循環管路が接続され、該ガス循環管路の供給側には、反応性ガスとキャリアガスのガス供給部が設けられ、また上記ガス循環管路の排出側には、排出ガス中の少なくとも反応生成物を吸着除去する吸着槽と、排出ガス中の水分を除去する脱水槽と、上記吸着槽と脱水槽を通過した排出ガス中に浮遊する微粒子を除去するフィルタとを備えたガス精製部が設けられたガス回収循環装置において、上記加工装置に圧力調整弁と排気手段とを備えた排気管が接続されたことを特徴とするガス回収循環装置。
IPC (5件)：
B01D 53/34
, B01D 53/81
, B01D 53/26
, H01L 21/02
, H01L 21/301
B01D 53/34 A
, H01L 21/78 S
