特許
J-GLOBAL ID：200903070232857254
リトグラフ・ホトマスクのパターン化された構造物の寸法を測定する方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山崎 行造 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-179144
公開番号（公開出願番号）：特開平5-187828
出願日： 1992年06月12日
公開日（公表日）： 1993年07月27日
要約：
【要約】[目的] リトグラフ・ホトマスクのパターン化された構造の寸法を検査し、かつ測定する装置を提供する。[構成] 装置には、共焦点走査顕微鏡が含まれるが、検査すべきホトマスクはその下に置かれる。ホトマスクは、顕微鏡からの作像ビームがホトマスク内の金属-基板の境界で走査ラインに、沿い密な間隔の点で反射度情報を記録するために、顕微鏡からの作像ビームを可能にするように移動され、またマスクのパターン化されない側は顕微鏡に面して置かれるので、作像ビームはマスクの透明な基板材料から所望の測定面まで通る。透明材料を通って作像するように特に修正された対物レンズは、光学システムにおいて使用され、また補償ガラス板はマスクの基板が対物レンズを修正した透明材料の厚さよりも薄いときに対物レンズとホトマスクとの間に選択的に置かれる。
請求項（抜粋）：
ホトマスクのパターン化されていない基板側が顕微鏡に面する位置にあるように反射光を使用する光学顕微鏡によって見られるべき位置にホトマスクを置く段階と、ホトマスクのパターン化された層の構造物の寸法を示す情報を供給するようにホトマスクのパターン化された層の上のいろいろな点で反射度情報を得る段階とを含む、ことを特徴とするリトグラフ・ホトマスク上のパターン化された構造物の寸法を測定する方法。
IPC (3件)：
G01B 11/02
, G01B 9/04
, G01C 3/06
