特許

J-GLOBAL ID：200903070241690427

半導体デバイスを製造するための製造設備及びクリーンルーム

発明者： 大坪 隆之 ,  和田 俊男
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 秋沢 政光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-135613
公開番号（公開出願番号）：特開平5-149591
出願日： 1992年04月30日
公開日（公表日）： 1993年06月15日
要約：

【要約】【目的】 クリーンルームのある作業室内に汚染源がある場合でも、汚染物質がクリーンルーム内全体に拡散して不良品発生の原因となることを防止する。【構成】 クリーンルーム10内の汚染源領域45を仕切壁18によって他の領域から区画する。すなわち、非汚染領域47の空気循環系にかかわるサプライチャンバ12a、作業室14a、リターンチャンバ16a、空気循環装置28aと汚染源領域45の空気循環系にかかるサプライチャンバ12b、作業室14b、リターンチャンバ16b、空気循環装置28bとを仕切壁18によって分離しそれぞれの空気循環を独立の系とする。【効果】 汚染物質がクリーンルームの作業室内で拡散するのを防止するだけでなく、空気循環系において拡散することも防止できる。

請求項（抜粋）：

塵埃を濾過された清浄な空気を一時蓄えるためのサプライチャンバと、このサプライチャンバの下部にあって、サプライチャンバから供給される上記清浄な空気の中で作業をするための作業室と、この作業室の下部にあって、作業室から排出された空気を一時蓄えるためのリターンチャンバと、このリターンチャンバに蓄えられた空気を上記サプライチャンバに向けて循環させるための空気循環系と、この空気循環系、上記リターンチャンバ、上記作業室、及び上記サプライチャンバのそれぞれを双方間での空気の出入りを遮断された少なくとも2つの領域に分離するための空気遮断部と、を備えた半導体デバイスを製造するための製造設備。