特許

J-GLOBAL ID：200903070246212833

ベンチ栽培システム

発明者： 岡野 剛健 ,  松永 一夫 ,  堀田 由人 ,  岩永 正剛
出願人/特許権者： 長崎県経済農業協同組合連合会 ,  長崎県
代理人 (1件)： 平井 安雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-355317
公開番号（公開出願番号）：特開平10-178927
出願日： 1996年12月20日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：

【要約】【課題】 本発明は植物を栽培する本圃の床土が高床式に配設されるベンチ栽培システムに関し、特に肥料の供給及び床土の温度管理を改良したベンチ栽培システムに関し、栽培植物に対する施肥管理を容易に行なえると共に、その他の環境管理を正確化できるベンチ栽培システムを提供することを目的とする。【解決手段】 断熱材で形成される凹溝部20を有する基台部2を支柱1により高床式に支持し、この基台部2に基肥を含有する床土3を収納し、この床土3に植付けられた植物の育生状況に応じて灌水又は追肥液肥を給液手段から供給し、この床土3を保温手段で所定温度に調整することにより、栽培前期においては灌水及び温度管理のみで、中期以降に追肥及び温度管理を行なうのみで足りることとなり、施肥管理がより容易に行なえると共に、床土の基肥を基礎として追肥液肥で微調整を行なうことで施肥管理を育生状況に適合させてより精密に且つ適正に調整できる。

請求項（抜粋）：

大地面から所定高さに支柱により支持され、断面略溝状の凹溝部を有する断熱材で形成される基台部と、前記基台部の凹溝部内に収納され、粒状物及び/又は粉状物を含んで形成される基肥を含有する床土と、前記床土に植付けられる植物の育生状況に応じて灌水及び/又は追肥液肥を供給する給液手段と、前記基台部の凹溝部内に配設され、当該凹溝部内に収納される床土を所定の温度に調整する保温手段とを備えることを特徴とするベンチ栽培システム。

IPC (5件)：

A01G 9/20 ,  A01G 1/00 303 ,  A01G 9/00 ,  A01G 9/02 103 ,  A01G 27/00

FI (5件)：

A01G 9/20 A ,  A01G 1/00 303 C ,  A01G 9/00 B ,  A01G 9/02 103 K ,  A01G 27/00 502 F

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 植物の栽培装置及び栽培容器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-072366   出願人：小林秀俊
• 栽培装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-055776   出願人：福岡丸本株式会社, 矢崎化工株式会社