特許
J-GLOBAL ID：200903070247520132
凹版オフセット印刷方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
亀井 弘勝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-267496
公開番号（公開出願番号）：特開平10-109471
出願日： 1996年10月08日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：
【要約】【課題】 特にブランケットから被印刷物へのインキの完全転移を実現し、印刷形状が良好な微細パターンを形成できるオフセット印刷方法を提供する。【解決手段】 凹版の凹部に充填したインキをブランケットの表面に転移させ、次いでこのインキを被印刷物の表面に転移させてインキ層を形成する凹版オフセット印刷方法において、ブランケットの表面に転移されたインキに対して溶剤を吹きつけた後、インキをブランケットから被印刷物の表面に転移させる。
請求項（抜粋）：
凹版の凹部に充填したインキをブランケットの表面に転移させ、次いでこのインキを被印刷物の表面に転移させてインキ層を形成する凹版オフセット印刷方法において、ブランケットの表面に転移されたインキに対して溶剤を吹きつけた後、インキをブランケットから被印刷物の表面に転移させることを特徴とする凹版オフセット印刷方法。
IPC (5件)：
B41M 1/10
, B41F 9/01
, B41F 17/14
, G02B 5/20 101
, H05K 3/12
B41M 1/10
, B41F 9/01
, B41F 17/14 E
, G02B 5/20 101
, H05K 3/12 Z
