特許
J-GLOBAL ID:200903070262079680

金属シリコン中のボロン除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小杉 佳男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-011208
公開番号(公開出願番号):特開平9-202611
出願日: 1996年01月25日
公開日(公表日): 1997年08月05日
要約:
【要約】【課題】ノズル詰りなどを生ずることなく溶融Si中のB含有量を低減させ、高純度Siを得る。【解決手段】1400°C以下で分解しH2 O及び/又はCO2 を発生する1種又は2種以上の固体を、Ar、H2 、COなどのキャリアガスと共に溶融Si浴中に吹込むことにより、ノズル先端部でのシリコンの酸化を抑えることができ、また固体から分解する大量のH2 O又はCO2 をSi浴中に導入することができ、Bの酸化物ガスをキャリアガスと共に排出する。
請求項(抜粋):
1400°C以下で分解しH2 O及び/又はCO2 を発生する1種又は2種以上の固体を、キャリアガスと共に溶融Si浴中に吹込むことを特徴とする金属シリコン中のボロン除去方法。

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