特許
J-GLOBAL ID：200903070277045200
レーザ光走査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-187453
公開番号（公開出願番号）：特開平10-029079
出願日： 1996年07月17日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：
【要約】【課題】 平面状の所定パターンを描画するために行われるレーザ光の走査を、短時間で行うことができるレーザ光走査方法を提供する。【解決手段】 互いに直交するX軸方向及びY軸方向に平行移動可能なXYステージ上に被加工物を配し、被加工物をXYステージによって移動させながら、回転するポリゴンミラーにレーザ光を照射し、その反射光を被加工物上において走査させる。
請求項（抜粋）：
互いに直交するX軸方向及びY軸方向に平行移動可能なXYステージ上に被加工物を配し、被加工物をXYステージによって移動させながら、回転するポリゴンミラーにレーザ光を照射し、その反射光を被加工物上において走査させることを特徴とするレーザ光走査方法。
IPC (5件)：
B23K 26/00
, B23K 26/08
, G02B 26/10 102
, G02F 1/1337
, G03F 7/00 505
B23K 26/00 B
, B23K 26/08 F
, G02B 26/10 102
, G02F 1/1337
, G03F 7/00 505
