特許
J-GLOBAL ID:200903070277128504
マイクロ波プラズマ処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森 道雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-071021
公開番号(公開出願番号):特開平8-017595
出願日: 1995年03月29日
公開日(公表日): 1996年01月19日
要約:
【要約】【目的】厚い封止板を用いることなく所要の物理的強度が保たれ、処理中に破損の虞が無いマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【構成】反応器1の上部にはマイクロ波導入窓が開口してあり、それを取り囲む上部壁には、支持枠7が前記上部壁の上に載置された0リング9を挾持するように固定されている。支持枠7は、反応器1の上部壁の形状に対応して環状正四辺形の外枠部材と、該外枠部材に内嵌し外枠部材にて囲まれた領域を4等分する内枠部材とを備えており、外枠部材及び内枠部材にて中空部17が形成されている。支持枠7上には、中空部17に応じて4分割された封止板3が載置してある。支持枠7と封止板3との間には、中空部17を囲むように0リング8が配置してあり、減圧時に0リング8が支持枠7と封止板3とによって挾持されることによって反応器1の上部は封止される。
請求項(抜粋):
マイクロ波導入窓が開口された反応器と、この窓を封止しかつマイクロ波を反応器内に導入するための封止板とこの封止板を支持する複数の中空部を有する支持枠とを備えることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (5件):
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
FI (2件):
H01L 21/302 B
, H01L 21/302 H
引用特許:
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