特許

J-GLOBAL ID：200903070283437330

電磁波吸収体およびその製造方法、ならびに電子機器

発明者： 猪俣 浩二 ,  岸 隆 ,  野沢 和雄 ,  岩淵 喜悦 ,  菅原 利明 ,  太田 栄治
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-322008
公開番号（公開出願番号）：特開2000-196281
出願日： 1998年11月12日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 難燃性と高い電磁波吸収性を有するフイルム状の電磁波吸収体およびその製造方法。【解決手段】 軟磁性体と高分子結合剤を主体とする電磁波吸収層2を有する電磁波吸収体で、高分子結合剤は、数平均分子量が25,000以上であるとともに、分子中の芳香族成分が15重量%以上とする。製造方法は、支持体1上に、軟磁性粒子と高分子結合剤を主体とする磁性塗料を塗布および乾燥して電磁波吸収層を形成する。

請求項（抜粋）：

軟磁性粒子と高分子結合剤を主体とする電磁波吸収層を有する電磁波吸収体であって、前記高分子結合剤は、数平均分子量が25,000以上であるとともに、分子中の芳香族成分が15重量%以上であることを特徴とする電磁波吸収体。

Fターム (5件)：

5E321BB23 ,  5E321BB32 ,  5E321BB51 ,  5E321GG11 ,  5E321GH10