低シリカフォージャサイト型ゼオライトおよびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-164375
公開番号（公開出願番号）：特開平11-343113
出願日： 1998年05月29日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】高純度な低シリカフォージャサイト型ゼオライト(LSXと略す)を大規模で短時間に製造する方法を提供する。【解決手段】X線回折法にてフォージャサイト単相であり、SiO2/Al2O3モル比が1.9〜2.1であり、Na型のときの水分吸着量が35.0%以上であり、一次粒子径が1.0μm以上10.0μm未満のLSX、及び、アルミネートを含む溶液とシリケートを含む溶液を混合し、ゲル化後熟成、結晶化を行って、SiO2/Al2O3モル比が1.9〜2.1のLSXの製造法において、あらかじめ10°C以上60°C以下の温度で10分以上3時間以内の熟成を行った10〜20Na2O・Al2O3・5〜20SiO2・100〜250H2Oの組成の溶液を、生成するLSXに対しAl2O3基準で0.001%以上0.03%未満ゲル化後あるいは熟成の初期に加えるか、または、0.01%以上10.0%以下ゲル化前に加えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

X線回折法においてフォージャサイト単相であり、SiO2/Al2O3モル比が1.9〜2.1であり、Na型としたときの水分吸着量が35.0%以上であり、かつ、一次粒子径が1.0μm以上10.0μm未満であることを特徴とする低シリカフォージャサイト型ゼオライト。

IPC (3件)：

C01B 39/20 , B01D 53/02 , B01J 20/18

FI (3件)：

C01B 39/20 , B01D 53/02 Z , B01J 20/18 D

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