特許
J-GLOBAL ID：200903070339283021
位相シフトマスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-258097
公開番号（公開出願番号）：特開平8-123008
出願日： 1994年10月24日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】マスク洗浄に耐えうるハーフトーン型の位相シフトマスクおよびその製造方法を提供する。【構成】透明基板1上に半透明な位相シフト層を設け、位相シフト層を透過した光の強度がこの透過した光により露光されるフォトレジストの感度以下になるような透過率を有するハーフトーン型の位相シフトマスク2′において、マスク最表面に保護膜4を設けることを特徴とする位相シフトマスク2′で、実施態様としては、位相シフト層がモリブデンシリサイドの窒化酸化膜からなり且つ保護膜4が酸化シリコン膜からなっている。また、透明基板1上に半透明な位相シフト層を設け、フォトリソグラフィー工程を経て位相シフト層をパターニングし、ハーフトーン型位相シフトマスク2′を形成した後、最表面に保護膜4を設けることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
請求項（抜粋）：
透明基板上に半透明な位相シフト層を設け、前記位相シフト層を透過した光の強度がこの透過した光により露光されるフォトレジストの感度以下になるような透過率を有するハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、マスク最表面に保護膜を設けることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 1/14
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
