特許
J-GLOBAL ID:200903070343618186
MOS型固体撮像装置及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-215655
公開番号(公開出願番号):特開2004-063498
出願日: 2002年07月24日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】低電圧でフォトダイオードの信号電荷の読み出しが行え、かつ信号電荷の取り残しのないMOS型固体撮像装置を提供する。【解決手段】第1導電型の半導体基板1上に、入射された光を信号電荷に変換するフォトダイオード領域と、フォトダイオード領域の一端と略隣接し、フォトダイオード領域における第2導電型の領域2に対向して形成された第1のゲート電極部6と、第1のゲート電極6に隣接して形成された第2のゲート電極7と、第2のゲート電極7の一端に略隣接して形成された第2導電型のドレイン領域8とを備えている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第1導電型の半導体基板上に、
入射された光を信号電荷に変換するフォトダイオード領域と、
前記フォトダイオード領域の一端と略隣接し、前記フォトダイオード領域における第2導電型の領域に対向して形成された第1のゲート電極部と、
前記第1のゲート電極に隣接して形成された第2のゲート電極と、
前記第2のゲート電極の一端に略隣接して形成された第2導電型のドレイン領域とを備えたことを特徴とするMOS型固体撮像装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L27/14 A
, H04N5/335 E
Fターム (16件):
4M118AA04
, 4M118AB01
, 4M118BA14
, 4M118CA02
, 4M118CA03
, 4M118EA07
, 4M118EA09
, 4M118EA14
, 4M118EA20
, 4M118FA06
, 4M118FA08
, 5C024CX17
, 5C024CY47
, 5C024GX03
, 5C024GY31
, 5C024GZ02
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