特許
J-GLOBAL ID:200903070343618186

MOS型固体撮像装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-215655
公開番号(公開出願番号):特開2004-063498
出願日: 2002年07月24日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】低電圧でフォトダイオードの信号電荷の読み出しが行え、かつ信号電荷の取り残しのないMOS型固体撮像装置を提供する。【解決手段】第1導電型の半導体基板1上に、入射された光を信号電荷に変換するフォトダイオード領域と、フォトダイオード領域の一端と略隣接し、フォトダイオード領域における第2導電型の領域2に対向して形成された第1のゲート電極部6と、第1のゲート電極6に隣接して形成された第2のゲート電極7と、第2のゲート電極7の一端に略隣接して形成された第2導電型のドレイン領域8とを備えている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第1導電型の半導体基板上に、 入射された光を信号電荷に変換するフォトダイオード領域と、 前記フォトダイオード領域の一端と略隣接し、前記フォトダイオード領域における第2導電型の領域に対向して形成された第1のゲート電極部と、 前記第1のゲート電極に隣接して形成された第2のゲート電極と、 前記第2のゲート電極の一端に略隣接して形成された第2導電型のドレイン領域とを備えたことを特徴とするMOS型固体撮像装置。
IPC (2件):
H01L27/146 ,  H04N5/335
FI (2件):
H01L27/14 A ,  H04N5/335 E
Fターム (16件):
4M118AA04 ,  4M118AB01 ,  4M118BA14 ,  4M118CA02 ,  4M118CA03 ,  4M118EA07 ,  4M118EA09 ,  4M118EA14 ,  4M118EA20 ,  4M118FA06 ,  4M118FA08 ,  5C024CX17 ,  5C024CY47 ,  5C024GX03 ,  5C024GY31 ,  5C024GZ02

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