2次元および3次元フォトニック結晶の作製方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：谷義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-137676
公開番号（公開出願番号）：特開2000-284136
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 2次元および3次元フォトニック結晶の作製方法を提供。【解決手段】 2次元フォトニック結晶の作製方法は、基板に周期的な2次元配置の微細構造を作製する工程と、屈折率n1を有する材料からなる薄膜を該微細構造上に形成する工程と、該薄膜を該微細構造に押し込む工程とを有する。また、3次元フォトニック結晶の作製方法は、屈折率n1を有する第1の材料からなる第1の薄膜を形成する工程と、該第1の薄膜に所定の微細構造を有する型を押し当てて刻印する工程と、第1の薄膜上に、屈折率n2を有する第2の材料からなる第2の薄膜を積層する工程と、2の薄膜に所定の微細構造を有する型を押し当てて刻印する工程と、を少なくとも1回繰り返すことで積層体構造を形成することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板上に薄膜が積層されてなる積層体構造を有するフォトニック結晶の作製方法であって、該基板に周期的な2次元配置の微細構造を作製する工程と、屈折率n1を有する材料からなる薄膜を該微細構造上に形成する工程と、該薄膜を該微細構造に押し込む工程と、を有することを特徴とする2次元フォトニック結晶の作製方法。

Fターム (9件)：

2H047KA00 , 2H047PA02 , 2H047PA21 , 2H047PA24 , 2H047QA01 , 2H047QA04 , 2H047QA05 , 2H047TA00 , 2H047TA43

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