特許
J-GLOBAL ID:200903070350312955

積層磁性体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 穂上 照忠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-236937
公開番号(公開出願番号):特開平6-084682
出願日: 1992年09月04日
公開日(公表日): 1994年03月25日
要約:
【要約】【目的】バルクハウゼンノイズの少ない積層磁性体を製造する。【構成】Ni-Fe系合金の磁性膜上にFe-Mn系合金を積層してNi-Fe系/Fe-Mn系の積層磁性体を製造する際に、Ni-Fe系の磁性材料の表面を真空中で減膜した後に、Fe-Mn系合金膜を積層する積層磁性体の製造方法。【効果】Ni-Fe系合金とFe-Mn系合金を真空中で連続して成膜する場合だけでなく、Ni-Fe系合金の表面が成膜後に酸化された場合にも適用できるので、製造の中断による大気中への放置、試料の洗浄や装置間の搬送などが必要な場合でも交換相互作用を十分に発現させることができる。
請求項(抜粋):
Ni-Fe系合金の磁性膜上にFe-Mn系合金を積層してNi-Fe系/Fe-Mn系の積層磁性体を製造する際に、Ni-Fe系の磁性材料の表面を真空中で減膜した後、Fe-Mn系合金膜を成膜することを特徴とする積層磁性体の製造方法。
IPC (5件):
H01F 41/18 ,  C23C 14/06 ,  G11B 5/31 ,  G11B 5/39 ,  H01F 41/20

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