特許

J-GLOBAL ID：200903070362479103

レジスト組成物

発明者： 岡田 伸治 ,  児玉 俊一
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 野口 恭弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-172919
公開番号（公開出願番号）：特開2001-350263
出願日： 2000年06月09日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：

【要約】【課題】 アルカリ水溶液で現像可能で、短波長の光源が適用でき、平坦性、ドライエッチング耐性および耐熱性等に優れた含フッ素レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 フルオロオレフィンなどの含フッ素モノマー(a)のモノマー単位、脂環型エチレン性モノマー(b)のモノマー単位、およびビニレンカーボネート(c)のモノマー単位を加水分解して得られる2つの水酸基を、酸によって水酸基を再生可能な保護基でブロックした構造を有するモノマー単位、を含む含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)および有機溶媒(Z)を含むことを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

CF2=CX1X2(ただし、X1は水素原子またはフッ素原子を表し、X2は水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数3以下のパーフルオロアルキル基または炭素数3以下のパーフルオロアルコキシ基を表す)で表される含フッ素モノマー(a)のモノマー単位、脂環型エチレン性モノマー(b)のモノマー単位、ビニレンカーボネート(c)のモノマー単位を加水分解して得られる2つの水酸基を、酸によって水酸基を再生可能な保護基によりブロックした構造を有するモノマー単位、を含む含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)および有機溶媒(Z)を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F210/14 ,  C08F214/18 ,  C08F216/14 ,  C08F232/00 ,  C08F234/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F210/14 ,  C08F214/18 ,  C08F216/14 ,  C08F232/00 ,  C08F234/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (44件)：

2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BF09 ,  2H025BF11 ,  2H025BF27 ,  2H025BF29 ,  2H025BG00 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J002BB161 ,  4J002BB191 ,  4J002BD141 ,  4J002BD151 ,  4J002BD161 ,  4J002BE041 ,  4J002BK001 ,  4J002EB106 ,  4J002EQ006 ,  4J002EV296 ,  4J002FD146 ,  4J100AA20Q ,  4J100AC24P ,  4J100AC26P ,  4J100AC27P ,  4J100AE09Q ,  4J100AE09R ,  4J100AE39P ,  4J100AR11Q ,  4J100AR32R ,  4J100BA03R ,  4J100BC04Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA61 ,  4J100FA02