特許

J-GLOBAL ID：200903070365546278

基体表面被覆方法及び被覆部材

発明者： 河田 一喜
出願人/特許権者： オリエンタルエンヂニアリング株式会社
代理人 (1件)： 森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-171712
公開番号（公開出願番号）：特開平7-026381
出願日： 1993年07月12日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：

【要約】【目的】金属、セラミックス等でなる3次元形状を有する工具、金型、機械部品等の被処理基体の表面に、プラズマCVD法により低温で密着性の良く、種々の組成のTiAlN系膜を形成させる方法及び被覆部材を提供する。【構成】プラズマCVD法により、基体13の表面に、TiとAlとNとの総量が50〜100at%の組成をもつTiAlN系膜18aとして、膜厚が1μmのTi0.4 Al0.1 N0.5 膜を形成させた後に、TiとAlとの含有量の異なるTiAlN系膜18aとして、膜厚が1.5μmのTi0.25Al0.25N0.5 膜を形成させる。かかる基体表面被覆方法により形成された皮膜を基体表面被覆部材18とする。

請求項（抜粋）：

基体表面を表面強化膜で被覆するに当たり、TiとAlとNとの総量が50〜100at%の組成である一種以上のTiAlN系膜とTiAlN系以外の膜とからなり、且つ表面強化膜としての最上層をTiAlN系膜とする多層膜と、TiとAlとNとの総量が50〜100at%の組成であり、且つTiとAlとNとのうちの2つ以上の元素の含有量の違う2種以上のTiAlN系膜からなる多層膜と、TiとAlとNとの総量が50〜100at%の組成であり、且つTiとAlとNとのうちの2つ以上の元素の含有量を傾斜組成とした1種以上のTiAlN系膜からなる単層膜または多層膜との、少なくとも一種の皮膜を、基体表面にプラズマ化学蒸着法により形成することを特徴とする基体表面被覆方法。

IPC (3件)：

C23C 16/30 ,  C23C 16/50 ,  C23C 28/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-038459
  
• 特開平1-252304
  
• 特公昭59-013586