特許

J-GLOBAL ID：200903070374005611

物体の表面処理方法

発明者： 世田 博國 ,  蛭田 八代栄 ,  小田切 耀 ,  加藤 宏太郎 ,  新野 一司 ,  木村 文人
出願人/特許権者： 株式会社シンクロン ,  株式会社那須ニコン ,  株式会社ニコン
代理人 (1件)： 臼村 文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-297976
公開番号（公開出願番号）：特開平6-122776
出願日： 1992年10月09日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：

【要約】【構成】 予め表面にSiO2 等の酸化物薄膜を形成した被処理物体53を、真空槽41内に入れ、真空排気する。ヒータ13で容器15内のフルオロアルキルシラン等の低表面エネルギー性物質15を加熱し、バルブ21を開けて低表面エネルギー性物質15を真空槽41内に導き、放電電極45により放電を起こし、プラズマ雰囲気下に被処理物体53を低表面エネルギー性物質15で表面処理する。【効果】 表面がMgF2 のメガネレンズ等の光学部材、金属などを、溶剤を使わない乾式法で表面処理することにより、物体表面に耐久性に優れた高い撥水性を付与できる。

請求項（抜粋）：

低表面エネルギー性物質を気化せしめ、予め表面に酸化物薄膜が形成された被処理物体の表面に、気化した低表面エネルギー性物質を接触させ、被処理物体の表面上に酸化物薄膜を介して低表面エネルギー性被膜を形成することを特徴とする物体の表面処理方法。

IPC (7件)：

C08J 7/04 ,  B01J 19/08 ,  C03C 17/28 ,  C03C 17/30 ,  C04B 41/83 ,  C08J 7/00 306 ,  G02B 1/10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-135435
  
• 特開昭59-001505