特許
J-GLOBAL ID:200903070399403948
布地処理組成物のための構造化システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
吉武 賢次
, 中村 行孝
, 紺野 昭男
, 横田 修孝
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-534715
公開番号(公開出願番号):特表2005-534800
出願日: 2003年09月05日
公開日(公表日): 2005年11月17日
要約:
本発明は液体布地処理組成物に組み込むのに好適な構造化システムに関する。かかる構造化システムは、添加される成分として、(A)結晶化して液体マトリクス全体に及ぶ糸状構造化網状組織を形成できる非ポリマー性、結晶性、ヒドロキシル含有構造化剤;(B)非イオン性乳化剤;(C)陰イオン性乳化剤;及び(D)液体キャリアを含む。陰イオン性乳化剤はかかる構造化システム中に、該構造化システムの0.1重量%〜8.0重量%の濃度で存在する。 本発明はまた、かかる構造化システムを調製するための方法及び陰イオン性乳化剤と構造化剤を混合することによって糸状構造化物質の粒度を制御するための本発明の構造化システムの使用に関する。かかる構造化システムを含有する液体布地処理組成物もまた開示されている。
請求項(抜粋):
液体布地処理組成物へ組み込むのに好適な構造化システムであって、前記構造化システムは添加される成分として、
(A)結晶化して液体マトリクス全体に及ぶ糸状の構造化網状組織を形成できる、非ポリマー性、結晶性、ヒドロキシル含有構造剤;
(B)非イオン性乳化剤;
(C)陰イオン性乳化剤;及び
(D)液体キャリア
を含み、前記陰イオン性乳化剤は前記構造化システムの0.1重量%〜8.0重量%の濃度で存在する、構造化システム。
IPC (8件):
C11D3/20
, C11D1/02
, C11D1/38
, C11D1/66
, C11D17/08
, D06M13/02
, D06M13/224
, D06M15/643
FI (8件):
C11D3/20
, C11D1/02
, C11D1/38
, C11D1/66
, C11D17/08
, D06M13/02
, D06M13/224
, D06M15/643
Fターム (34件):
4H003AB19
, 4H003AC08
, 4H003AC15
, 4H003AE06
, 4H003DA01
, 4H003EA18
, 4H003EA21
, 4H003EB04
, 4H003EB09
, 4H003EB13
, 4H003EB14
, 4H003EB24
, 4H003EB37
, 4H003EB40
, 4H003EC01
, 4H003EC02
, 4H003EC03
, 4H003ED28
, 4H003FA12
, 4H003FA19
, 4H003FA21
, 4H003FA22
, 4H003FA23
, 4H003FA26
, 4H003FA31
, 4H003FA37
, 4L033AB04
, 4L033AC15
, 4L033BA01
, 4L033BA21
, 4L033BA28
, 4L033CA48
, 4L033CA59
, 4L033CA64
引用特許:
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