特許
J-GLOBAL ID：200903070410926176
連続性蒸気流の生成方法、蒸発坩堝並びに真空被覆装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-316908
公開番号（公開出願番号）：特開2000-144381
出願日： 1999年11月08日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 基板を真空被覆するのに真空被覆法の枠内で、ガリウムが一価の形で存在する化合物を含む連続性蒸気流を生成する方法を提供する。【解決手段】 蒸気流出口15を有する全側面を閉鎖された蒸発坩堝内に金属ガリウム13と共に配置された、ガリウムを二価又は三価の形で含む蒸着物質12を蒸発させ、この蒸気を金属ガリウム13と接触させ、二価又は三価のガリウムを一価のガリウムに還元し、引続き蒸気流出口15を通して基板3の方向に流出させる。
請求項（抜粋）：
基板を真空被覆するための真空被覆法であって、蒸気流出口を有する全側面を閉鎖された蒸発坩堝内に金属ガリウムと共に配置された、ガリウムを二価又は三価の形で含む蒸着物質を蒸発させ、この蒸気を金属ガリウムと接触させ、ガリウムが一価の形で存在する化合物を含む連続性蒸気流を生成する方法において、二価又は三価のガリウムを一価のガリウムに還元し、引続き蒸気流出口を介して基板方向に流出させることを特徴とする連続性蒸気流の生成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/24 A
, C23C 14/14 D
