特許
J-GLOBAL ID:200903070414406100
ナノ炭素材料含有成形体及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
社本 一夫
, 栗田 忠彦
, 桜井 周矩
, 村上 清
, 細川 伸哉
, 松山 美奈子
, 小磯 貴子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-178067
公開番号(公開出願番号):特開2004-018754
出願日: 2002年06月19日
公開日(公表日): 2004年01月22日
要約:
【解決課題】ナノ炭素材料を高度に分散させてなるナノ炭素材料含有組成物、ナノ炭素材料含有高分子化合物材料及びナノ炭素材料含有成形体並びにこれらの製造方法を提供する。【解決手段】ナノ炭素材料を重合性材料に添加して放射線照射を行い、ナノ炭素材料含有組成物を形成する。この組成物を、成形体を構成する基材に担持又は付着させて、放射線照射を行い、基材上にナノ炭素材料含有高分子化合物を形成させる。基材上に形成されたナノ炭素材料含有高分子化合物を熱処理して、ナノ炭素材料含有成形体を形成する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
ナノ炭素材料と、重合性材料との共存下で、放射線照射を行うことを特徴とするナノ炭素材料含有高分子化合物材料の製造方法。
IPC (4件):
C08F2/44
, C01B31/02
, C08F2/00
, C08F292/00
FI (4件):
C08F2/44 A
, C01B31/02 101F
, C08F2/00 C
, C08F292/00
Fターム (42件):
4G146AA11
, 4G146AA13
, 4G146AA15
, 4G146AD17
, 4G146BA04
, 4G146BA13
, 4G146BA49
, 4G146BB10
, 4G146BC02
, 4G146BC15
, 4G146CB10
, 4J011AA05
, 4J011AC04
, 4J011PA03
, 4J011PB04
, 4J011PB22
, 4J011PC02
, 4J011PC07
, 4J011QA02
, 4J011QA04
, 4J011QA05
, 4J011QA09
, 4J011UA01
, 4J011UA03
, 4J011UA04
, 4J011VA02
, 4J026AC00
, 4J026BA05
, 4J026BA12
, 4J026BA25
, 4J026BA27
, 4J026BA29
, 4J026BA30
, 4J026BA31
, 4J026BB01
, 4J026CA09
, 4J026DB02
, 4J026DB03
, 4J026DB09
, 4J026DB36
, 4J026GA01
, 4J026GA02
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