特許
J-GLOBAL ID：200903070432379560
プラズマプロセス装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-055382
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255858
出願日： 1992年03月13日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】【目的】 マイクロ波を利用するプラズマプロセス装置で大口径試料のプラズマ処理を行うときに、試料全面で均一な処理を行う。【構成】 円錐形状金属筒1の両端に真空封じを兼ねたマイクロ波窓6,3を設け、大口径の誘電体窓3上に円錐状金属塊13を設置する。導波管5から円錐形状金属筒1の内部にマイクロ波を導入すると、円錐形状金属筒1の広がりによりマイクロ波はモード変換することなく大口径試料に適用できるように広がり、更に、円錐状金属塊13により中央部のマイクロ波強度が弱まる。このため、均一なマイクロ波がプラズマ生成室2に導入され、電子サイクロトロン共鳴により発生したプラズマは、大口径の試料10全面を均一に処理することになる。
請求項（抜粋）：
マイクロ波と放電ガスが導入されるプラズマ生成室と、該プラズマ生成室内に磁場を発生させる磁場発生手段と、前記プラズマ生成室へのマイクロ波導入用導波管として機能し該プラズマ生成室側先端部の開口径が拡げられた円錐状金属筒とを備え、マイクロ波と磁場との共鳴作用により前記プラズマ生成室内で発生したマイクロ波放電プラズマを用い該プラズマ生成室内に設置された試料をプラズマ処理するプラズマプロセス装置において、前記円錐状金属筒内の前記先端部側中央に、前記プラズマ生成室に導入されるマイクロ波の中央部分の強度を弱め前記試料近傍のプラズマを一様にする円錐状もしくは釣鐘状の金属塊を設置したことを特徴とするプラズマプロセス装置。
IPC (3件)：
C23C 16/50
, H01L 21/205
, H01L 21/302
