特許
J-GLOBAL ID：200903070442230815
パターン描画方法及び装置とその試料固定治具
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-229755
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086143
出願日： 1993年09月16日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】この発明は、試料温度の経時変化、試料の熱・機械的な歪の経時変化等が生じたとしても、描画位置の高精度化が図れることを目的とする。【構成】この発明は、試料ホルダ21上に複数の基準マーク24、25、28、29を設け、それらの位置測定を描画前はもちろん描画途中においても予め定められた時期毎に行うことにより、逐次補正係数を求め、描画にフィードバックするようにしたものである。
請求項（抜粋）：
試料固定治具にセットされた試料の所望位置に、エネルギービームによりパターンを描画する方法において、上記試料固定治具上に位置測定用のマークを複数個付与し、1つの試料に対する描画途中の予め定められた時期毎に上記エネルギービームにより上記複数のマークの位置を検出し、この検出結果からマーク位置の変動量及びマーク間距離の変動量を算出し、これらの変動データに基づいて試料上における描画パターン位置を逐次補正しつつ描画することを特徴とするパターン描画方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 K
, H01L 21/30 529
