特許
J-GLOBAL ID:200903070449449723

エチレンガス吸着性無機組成物及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 後呂 和男 ,  村上 二郎 ,  水澤 圭子 ,  石岡 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-242517
公開番号(公開出願番号):特開2009-072669
出願日: 2007年09月19日
公開日(公表日): 2009年04月09日
要約:
【課題】安価で、優れたエチレンガス吸着除去性能を発揮する新規な無機組成物、及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明のエチレンガス吸着性無機組成物は、炭酸カルシウムと非晶質シリカとを主成分とする無機組成物であって、平均細孔径の小径側と大径側とに、それぞれ1つ以上のピークが存在する細孔径分布を有し、かつ、エチレンガスに対して分解除去性能を有する無機系酸化物を含有する。また本発明のエチレンガス吸着性無機組成物は、ケイ酸質原料と石灰質原料とを反応させることにより低結晶質ケイ酸カルシウム水和物を得る工程と、低結晶質ケイ酸カルシウム水和物を炭酸ガスで炭酸化処理して炭酸カルシウムと非晶質シリカとを含む組成物を得る工程と、組成物を、エチレンガスに対して分解除去性能を有する無機系酸化物とともに粉砕する工程とを経て製造することができる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
炭酸カルシウムと非晶質シリカとを主成分とする無機組成物であって、平均細孔径の小径側と大径側とに、それぞれ1つ以上のピークが存在する細孔径分布を有し、 かつ、エチレンガスに対して分解除去性能を有する無機系酸化物を含有することを特徴とするエチレンガス吸着性無機組成物。
IPC (4件):
B01J 20/10 ,  A23B 4/16 ,  A23B 7/14 ,  A01N 3/00
FI (4件):
B01J20/10 C ,  A23B4/00 D ,  A23B7/14 ,  A01N3/00
Fターム (24件):
4B069AA04 ,  4B069KA05 ,  4B069KC11 ,  4B069KC15 ,  4G066AA13D ,  4G066AA22B ,  4G066AA26D ,  4G066AA43B ,  4G066AA43D ,  4G066AA66B ,  4G066BA24 ,  4G066CA51 ,  4G066DA03 ,  4G066FA03 ,  4G066FA17 ,  4G066FA21 ,  4G066FA37 ,  4G066FA40 ,  4H011BB18 ,  4H011CA03 ,  4H011CA04 ,  4H011CB10 ,  4H011CB11 ,  4H011CD03
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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