特許
J-GLOBAL ID：200903070453171241
光導波路とその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 順三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-198430
公開番号（公開出願番号）：特開平6-043331
出願日： 1992年07月24日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 光学特性のうちでも耐光損傷性をとくに向上させるとともに、この導波路に高機能性を付与すること。【構成】 LN/LT導波路のLiNbO3単結晶薄膜中に、H、Be、B、C、Si、N、Pのうちから選ばれる少なくとも1種または2種以上を注入もしくはこの薄膜中の構成元素の一部と交換し、これにより、LN/LT導波路の光学特性のうち、耐光損傷性をさらに向上させることができ、そして、この導波路のδno/δneを1に近づけて高機能性を付与する。
請求項（抜粋）：
タンタル酸リチウム単結晶基板上にニオブ酸リチウム単結晶薄膜が形成してなる光導波路の、そのニオブ酸リチウム単結晶薄膜中に、H、Be、B、C,Si、NおよびPのうちから選ばれる少なくとも1種または2種以上の元素を含有することを特徴とする光導波路。
引用特許：
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