特許
J-GLOBAL ID:200903070461420200

電子ビーム描画装置及び描画方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-190661
公開番号(公開出願番号):特開平9-045598
出願日: 1995年07月26日
公開日(公表日): 1997年02月14日
要約:
【要約】【課題】 電子ビームの焦点位置をずらした時の電子ビームの照射位置検出精度と寸法測定精度を高めることができ、補助露光方式による近接効果補正の補正精度を向上する。【解決手段】 近接効果を補正するためにパターン露光に重ね合わせて補助露光する機能を有する電子ビーム描画装置において、電子ビームの焦点位置をずらして該ビームをぼかす機構と、ぼかした電子ビームで試料面と同じ高さに固定された位置検出用マーク上を偏向走査する主副2段の偏向器13,14と、マークからの反射電子を検出する反射検出器23と、この反射検出器23で得られた検出信号を記憶する波形記憶回路33と、この波形記憶回路33に記憶された検出信号を正規分布関数で近似して平均値(ビーム位置)と標準偏差(ビーム径)を算出する演算器34とを備える。
請求項(抜粋):
近接効果を補正するためにパターン露光に重ね合わせて補助露光する機能を有する電子ビーム描画装置において、電子ビームの焦点位置をずらして該ビームをぼかす手段と、ぼかした電子ビームで試料面と同じ高さに固定された位置検出用マーク上を偏向走査する手段と、前記マークからの反射電子或いは二次電子を検出する検出器と、この検出器で得られた検出信号を記憶する波形記憶回路と、この波形記憶回路に記憶された検出信号を正規分布関数で近似して平均値と標準偏差を算出する演算手段とを備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。

前のページに戻る