特許

J-GLOBAL ID：200903070465534781

光ディスク原盤の作製方法

発明者： 宮村 芳徳 ,  杉山 久貴 ,  薦田 琢 ,  安藤 哲生 ,  佐々木 寿枝
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立マクセル株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-229890
公開番号（公開出願番号）：特開平9-073653
出願日： 1995年09月07日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：

【要約】【構成】レジスト表面をレーザ光で露光する際、レーザ光束中に位相シフト手段を設けることにより回折限界以下の小さい光スポットを得る。さらに、難溶化を組み合わせた。【効果】小さいマークや細い案内溝を形成でき、トラックピッチの狭い光ディスク基板を作製することができる。さらに、雑音成分が少ない、低ノイズ基板を作製することができ、信号成分の小さい光磁気ディスクなどの基板が作製できる見通しを得、その結果、S/Nの良い信号記録再生を実行することができる。

請求項（抜粋）：

基板表面に光感光性材料を塗布する工程と、その表面に光ディスクの案内溝情報あるいはセクタマークなどのアドレス情報を有する変調信号で点滅するレーザ光で露光する工程と、現像処理により前記露光に従い凹凸パターンを形成する工程とからなる光ディスクの原盤の作製方法において、案内溝露光用のレーザ光のXあるいはY方向のいずれか一方の光強度分布が回折限界よりも小さく、かつ反対方向の光強度分布が回折限界よりも大きいスポットからなることを特徴とする光ディスク原盤の作製方法。