特許
J-GLOBAL ID：200903070479280170
光学薄膜成形方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-145759
公開番号（公開出願番号）：特開平6-330290
出願日： 1993年05月25日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：
【要約】【目的】 圧縮応力を有し且つ中間的な屈折率を有する光学薄膜を得るための光学薄膜成形方法を提供する。【構成】 槽3内で基板上に一酸化ケイ素を真空蒸着により付着させて光学薄膜を成形するに際し、前記槽3内を200°C以上に加熱し、前記加熱した槽3内を低真空ポンプ901及び高真空ポンプ903で2.0×10-5Torr以下の真空度とし、前記真空度とした槽3内に酸素発生源から給気管1301を介して酸素を導入し、前記酸素を導入した槽3内を高真空ポンプ903で5.0×10-5Torr以上の真空度とすると共に、前記5.0×10-5Torr以上の真空度とした槽3内で、前記一酸化ケイ素が前記基板上に0.2〜0.5nm/secの速度で蒸着されるように、蒸発源7による一酸化ケイ素17の加熱温度や、基板15と蒸発源7との距離を適宜設定するようにしたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
槽内で基板上に一酸化ケイ素を真空蒸着により付着させて光学薄膜を成形するに際し、前記槽内を200°C以上に加熱し、前記加熱した槽内を2.0×10-5Torr以下の真空度とし、前記真空度とした槽内に酸素を導入し、前記酸素を導入した槽内を5.0×10-5Torr以上の真空度とし、前記5.0×10-5Torr以上の真空度とした槽内で、前記一酸化ケイ素を前記基板上に0.2〜0.5nm/secの速度で蒸着するようにした、ことを特徴とする光学薄膜成形方法。
IPC (2件)：
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