特許
J-GLOBAL ID：200903070497661505
フォトマスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-325737
公開番号（公開出願番号）：特開平5-158219
出願日： 1991年12月10日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：
【要約】【目的】 ノーマル配置パターンとアブノーマル配置パターンが混在する場合においても、それぞれのパターンを所望寸法で解像することのできるフォトマスクを提供することにある。【構成】 不透明領域の一部に透明領域のパターンを有し、隣接する一対のパターンの一方に透過光の位相を反転させるための位相シフタを設けたノーマル配置部2と、それ以外のアブノーマル配置部3とが混在した半導体製造用フォトマスク1において、ノーマル配置部2のパターンに透過光の光量を減衰させるための半透明層14を設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
不透明領域の一部に透明領域のパターンを有し、隣接する一対のパターンの一方に透過光の位相を反転させるための位相シフタを設けたノーマル配置部と、それ以外のアブノーマル配置部とが混在した半導体製造用フォトマスクにおいて、前記ノーマル配置部のパターンに透過光の光量を減衰させるための半透明層を設けたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
