特許
J-GLOBAL ID:200903070514729666

希ガスの回収方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木戸 一彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-289102
公開番号(公開出願番号):特開2002-097007
出願日: 2000年09月22日
公開日(公表日): 2002年04月02日
要約:
【要約】【課題】 プラズマ装置等の希ガス使用設備から排出される希ガスを効率よく回収することができ、希ガス使用設備に対して所定純度の希ガスを安定して供給することができる希ガスの回収方法及び装置を提供する。【解決手段】 減圧下で運転する希ガス使用設備から排出される排ガス中の希ガスを回収するにあたり、少なくとも2つ以上のガス分離手段によって前記排ガス中の希ガスと不純物とを分離回収する。
請求項(抜粋):
減圧下で運転する希ガス使用設備から排出される排ガス中の希ガスを回収するにあたり、少なくとも2つ以上のガス分離工程によって前記排ガス中の希ガスと不純物とを分離して希ガスを回収することを特徴とする希ガスの回収方法。
IPC (3件):
C01B 23/00 ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/22
FI (3件):
C01B 23/00 M ,  B01D 53/04 B ,  B01D 53/22
Fターム (22件):
4D006GA41 ,  4D006JA52Z ,  4D006JA57Z ,  4D006JA58Z ,  4D006KA52 ,  4D006KA63 ,  4D006KB12 ,  4D006KE06P ,  4D006KE13Q ,  4D006MB06 ,  4D006MC03X ,  4D006PA04 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01 ,  4D012CA20 ,  4D012CB16 ,  4D012CD07 ,  4D012CE02 ,  4D012CF03 ,  4D012CF05 ,  4D012CH08 ,  4D012CJ04
引用特許:
審査官引用 (12件)
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