パターン検出方法及びその装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-002340
公開番号（公開出願番号）：特開平5-312549
出願日： 1993年01月11日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】対象物の微小な欠陥等の微小なパターン情報を光学干渉を用いて光学像として高速に検出できるようにしたパターン検出方法及びその装置を提供する。【構成】プリント配線板のパターンや、セラミック基板のパターンや、それらを製造する工程で用いるマスクやレチクルなどのパターンである検出対象物1に、コヒーレント光またはパーシャルコヒーレント光で照明する照明光学系2と、照明または照明による反射検出光(光学像)を分割し、これら分割された光学像を相対的に位相を変えて合成(干渉)させてセルピッチだけはなれたパターンの差を取る干渉光学系(分割・位相変え・合成光学系)3と、そのパターン差をセンサ(光電変換手段)4で検出し、差異に基づく微小な欠陥等の微小なパターンの情報を検出するパターン差抽出部5とを備える構成である。

請求項（抜粋）：

着目パターンの光学像と該着目パターンと同一であるはずのパターンの光学像とから、相対的に位相を変えて合成した光学像を得、該光学像からパターンの情報を検出または観測することを特徴とするパターン検出方法。

IPC (6件)：

G01B 11/24 , G01N 21/88 , G03F 1/08 , G06F 15/62 405 , G06K 9/64 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-102404
特開平3-270213
特開平2-102404

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